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什么是MOS晶體管亞閾狀態(tài)詳解
  • 發(fā)布時(shí)間:2020-11-12 18:55:46
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什么是MOS晶體管亞閾狀態(tài)詳解
MOS晶體管亞閾狀態(tài)
晶體管亞閾狀態(tài)是MOSFET的一種重要工作狀態(tài)(工作模式),又稱為MOSFET的亞閾值區(qū)(Subthreshold region)。
這是MOSFET的柵極電壓Vgs處在閾值電壓VT以下、又沒有出現(xiàn)導(dǎo)電溝道的一種工作狀態(tài),即是Vgs≤VT 、表面勢(shì)ψs ≈ 費(fèi)米勢(shì)ψb(即表面為弱反型)的狀態(tài)。這時(shí)還是有一股較小的電流通過器件,該電流即稱為亞閾電流。
亞閾電流雖然較小,但是它卻能很好地夠受到柵極電壓的控制,所以亞閾狀態(tài)的MOSFET在低電壓、低功耗應(yīng)用時(shí)很有利,特別是在邏輯開關(guān)和存儲(chǔ)器等的大規(guī)模集成電路應(yīng)用中非常受到人們的重視。
電流產(chǎn)生機(jī)理
MOSFET在沒有出現(xiàn)表面溝道的情況下,它的“源區(qū)(n+)-襯底(p)-漏區(qū)(n+)”即自然地構(gòu)成了一個(gè)n+-p-n+雙極型晶體管(基區(qū)寬度為溝道長度);而柵-源電壓的作用,使得半導(dǎo)體表面發(fā)生弱反型(產(chǎn)生表面勢(shì)ψs),即導(dǎo)致襯底表面附近處的電子能量降低;而源-漏電壓又在p型區(qū)表面附近處產(chǎn)生電子的漂移電場(chǎng),即導(dǎo)致源-漏之間的能帶傾斜。
亞閾電流就是由源區(qū)注入到襯底表面的少數(shù)載流子、并擴(kuò)散到漏區(qū)所形成的電流,本質(zhì)上是少數(shù)載流子的擴(kuò)散電流(在半導(dǎo)體襯底表面附近處的擴(kuò)散電流)。當(dāng)然,由于對(duì)應(yīng)的n+-p-n+雙極晶體管的基區(qū)寬度很大,所以通過的亞閾電流也必然較小,而且電流放大系數(shù)也必然很低。
MOS晶體管亞閾狀態(tài)特性
MOS,亞閾狀態(tài)
因?yàn)?psi;s = Vgs–VT , 則MOSFET的亞閾電流為Idsub∝ exp(qψs/kT) ∝ exp(q [Vgs–VT] /kT) ,即輸出的亞閾電流隨著輸入柵-源電壓Vgs作指數(shù)式增大;并且在Vds>3kT/q時(shí), 亞閾電流與Vds的關(guān)系不大。但在Vgs>VT (即ψs > 2ψfb,即出現(xiàn)溝道) 時(shí),則輸出源-漏電流與Vgs之間有線性或平方的關(guān)系,這屬于正常的MOSFET傳導(dǎo)的電流。
MOSFET的這種亞閾工作狀態(tài)與其飽和工作狀態(tài)相比,具有低電壓和低功耗的優(yōu)點(diǎn),在邏輯應(yīng)用中有很大的價(jià)值。所以,在超大規(guī)模集成電路中,雖然采用的基本器件是MOSFET,但是其工作的物理基礎(chǔ)卻是雙極型晶體管原理。
亞閾狀態(tài)的性能指標(biāo)——亞閾值斜率(柵壓擺幅):
由于MOSFET的亞閾電流IDsub隨著VGS的增大而指數(shù)式增加,為了表征這種柵-源電壓對(duì)于亞閾電流的影響狀況(即亞閾特性的好壞),就引入一個(gè)所謂亞閾值斜率(柵極電壓擺幅)S的參量。S定義為:S=dVgs/d(lgIdsub)。S即表示亞閾電流Idsub減小10倍所需要的柵-源電壓(單位是[mV/dec])。
顯然,S的值愈小,器件的開關(guān)(即在導(dǎo)通態(tài)和截止態(tài)之間的轉(zhuǎn)換)速度就愈快。因此S值的大小反映了MOSFET在亞閾區(qū)的開關(guān)性能。在理想情況下,可求得S=59.6 mV/dec,這就表明,當(dāng)柵-源電壓改變大約60mV時(shí)就會(huì)使亞閾電流發(fā)生很大的變化。
因?yàn)镸OSFET的亞閾電流是少數(shù)載流子擴(kuò)散電流,所以亞閾電流與Vgs的關(guān)系、即S的大小,將與影響少數(shù)載流子注入效率及其運(yùn)動(dòng)的因素、以及影響柵極控制能力的因素有關(guān)。
這些因素主要有襯底摻雜濃度、半導(dǎo)體表面電容、表面態(tài)密度和溫度。降低襯底摻雜濃度和減小半導(dǎo)體表面態(tài)密度,減小耗盡層電容和增大氧化層電容,以及降低溫度,都可以減小S值。
從而,為了提高M(jìn)OSFET的亞閾區(qū)工作速度,就應(yīng)當(dāng)盡量減小MOS柵極系統(tǒng)中的界面態(tài)和降低襯底摻雜濃度,并且在MOSFET工作時(shí)應(yīng)當(dāng)加上一定的襯偏電壓(以減小耗盡層電容)和保持器件的溫度升高不要太大。
MOS,亞閾狀態(tài)
1.亞閾值條件下ID與VGS的關(guān)系?  
在MOS的I-V特性中,當(dāng)VGS略小于VT時(shí), MOS管已開始導(dǎo)通,仍會(huì)產(chǎn)生一個(gè)弱反型層,從而會(huì)產(chǎn)生由漏流向源的電流,稱為亞閾值導(dǎo)通,而且ID與VGS呈指數(shù)關(guān)系,關(guān)系表達(dá)式為:
MOS,亞閾狀態(tài)
下圖反映了NMOS與PMOS器件的柵源電壓VGS從0V到1.0V的掃描變化對(duì)漏極電流ID的關(guān)系特性曲線:
MOS,亞閾狀態(tài)
從圖中我們可以看出,當(dāng)0<VGS<0.52V時(shí),MOS管處于亞閾值區(qū),隨著VGS的增加,ID成指數(shù)規(guī)律上升;當(dāng)0.52V <VGS<0.66V時(shí),MOS管內(nèi)部載流子達(dá)到速度飽和,處于飽和區(qū):當(dāng)VGS>0.66V時(shí),MOS管處于線性區(qū),之后進(jìn)入強(qiáng)反型區(qū)。
亞閾值區(qū)電流的流動(dòng)機(jī)制是由少數(shù)載流子的擴(kuò)散引起的,這種擴(kuò)散發(fā)生在柵極電壓比VT小幾個(gè)熱電壓的時(shí)候。在亞閾值區(qū),MOS管像是個(gè)BJT,襯底為基極,漏源分別是發(fā)射極和集電極。因此,電流模型可以通過利用一個(gè)基于雙極模型的公式推導(dǎo)來實(shí)現(xiàn),電流公式為:
MOS,亞閾狀態(tài)
由上式可知:在亞閾值區(qū)中,希望降低VGS時(shí)電流也會(huì)顯著降低。
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